36 bộ phận thiết bị MOCVD đế than chì 4 inch

Mô tả ngắn gọn:

Giới thiệu và sử dụng sản phẩm: Đặt 36 miếng giá thể 4 giờ dùng để trồng cây LED màng epiticular màu xanh lam

Vị trí thiết bị của sản phẩm: trong buồng phản ứng, tiếp xúc trực tiếp với wafer

Sản phẩm hạ nguồn chính: Chip LED

Thị trường cuối cùng chính: LED


Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Sự miêu tả

Công ty chúng tôi cung cấplớp phủ SiCxử lý dịch vụ bằng phương pháp CVD trên bề mặt than chì, gốm sứ và các vật liệu khác, để các khí đặc biệt chứa carbon và silicon phản ứng ở nhiệt độ cao thu được các phân tử SiC có độ tinh khiết cao, các phân tử lắng đọng trên bề mặt vật liệu phủ, tạo thànhLớp bảo vệ SIC.

 

Cơ sở than chì--36

Các tính năng chính

1. Khả năng chống oxy hóa ở nhiệt độ cao:
khả năng chống oxy hóa vẫn rất tốt khi nhiệt độ cao tới 1600 C.
2. Độ tinh khiết cao: được tạo ra bằng cách lắng đọng hơi hóa học trong điều kiện khử trùng bằng clo ở nhiệt độ cao.
3. Chống xói mòn: độ cứng cao, bề mặt nhỏ gọn, hạt mịn.
4. Chống ăn mòn: thuốc thử axit, kiềm, muối và hữu cơ.

Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC

Thuộc tính SiC-CVD
Cấu trúc tinh thể Giai đoạn FCC
Tỉ trọng g/cm³ 3,21
độ cứng Độ cứng Vickers 2500
Kích thước hạt mm 2~10
Độ tinh khiết hóa học % 99.99995
Công suất nhiệt J·kg-1 ·K-1 640
Nhiệt độ thăng hoa oC 2700
Sức mạnh cảm giác MPa (RT 4 điểm) 415
Mô-đun của Young Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC) 430
Giãn nở nhiệt (CTE) 10-6K-1 4,5
Độ dẫn nhiệt (W/mK) 300
Nơi làm việc Semicera
Nơi làm việc Semicera 2
Máy thiết bị
Xử lý CNN, làm sạch bằng hóa chất, phủ CVD
Nhà kho Semicera
Dịch vụ của chúng tôi

  • Trước:
  • Kế tiếp: