4" 6" 8" Chất nền dẫn điện và bán cách điện

Mô tả ngắn gọn:

Semicera cam kết cung cấp chất nền bán dẫn chất lượng cao, là vật liệu chính để sản xuất thiết bị bán dẫn. Chất nền của chúng tôi được chia thành loại dẫn điện và bán cách điện để đáp ứng nhu cầu của các ứng dụng khác nhau. Bằng cách hiểu sâu sắc các đặc tính điện của chất nền, Semicera giúp bạn lựa chọn vật liệu phù hợp nhất để đảm bảo hiệu suất vượt trội trong sản xuất thiết bị. Chọn Semicera, chọn chất lượng tuyệt vời nhấn mạnh cả độ tin cậy và sự đổi mới.


Chi tiết sản phẩm

Thẻ sản phẩm

Vật liệu đơn tinh thể cacbua silic (SiC) có độ rộng vùng cấm lớn (~Si 3 lần), độ dẫn nhiệt cao (~Si 3,3 lần hoặc GaAs 10 lần), tốc độ di chuyển bão hòa điện tử cao (~Si 2,5 lần), độ phóng điện cao trường (~Si 10 lần hoặc GaAs 5 lần) và các đặc tính nổi bật khác.

Các vật liệu bán dẫn thế hệ thứ ba chủ yếu bao gồm SiC, GaN, kim cương, v.v., vì độ rộng khe cấm (Eg) của nó lớn hơn hoặc bằng 2,3 electron volt (eV), còn được gọi là vật liệu bán dẫn khe rộng. So với vật liệu bán dẫn thế hệ thứ nhất và thứ hai, vật liệu bán dẫn thế hệ thứ ba có ưu điểm là độ dẫn nhiệt cao, điện trường phân hủy cao, tốc độ di chuyển electron bão hòa cao và năng lượng liên kết cao, có thể đáp ứng các yêu cầu mới của công nghệ điện tử hiện đại về hiệu suất cao. nhiệt độ, công suất cao, áp suất cao, tần số cao và khả năng chống bức xạ và các điều kiện khắc nghiệt khác. Nó có triển vọng ứng dụng quan trọng trong các lĩnh vực quốc phòng, hàng không, hàng không vũ trụ, thăm dò dầu khí, lưu trữ quang học, v.v. và có thể giảm hơn 50% tổn thất năng lượng trong nhiều ngành công nghiệp chiến lược như truyền thông băng thông rộng, năng lượng mặt trời, sản xuất ô tô, chiếu sáng bán dẫn và lưới điện thông minh, đồng thời có thể giảm hơn 75% khối lượng thiết bị, điều này có ý nghĩa quan trọng đối với sự phát triển của khoa học và công nghệ nhân loại.

Năng lượng Semicera có thể cung cấp cho khách hàng chất nền cacbua silic dẫn điện (Dẫn điện), Bán cách điện (Bán cách điện), HPSI (Bán cách điện có độ tinh khiết cao); Ngoài ra, chúng tôi có thể cung cấp cho khách hàng các tấm epitaxy cacbua silic đồng nhất và không đồng nhất; Chúng tôi cũng có thể tùy chỉnh tấm epiticular theo nhu cầu cụ thể của khách hàng và không có số lượng đặt hàng tối thiểu.

THÔNG SỐ KỸ THUẬT

*n-Pm=n-loại Pm-Cấp,n-Ps=n-loại Ps-Cấp,Sl=bán cách điện

Mục

8 inch

6 inch

4 inch
nP n-Pm n-Ps SI SI
TTV(GBIR) 6um 6um
Cung(GF3YFCD)-Giá trị tuyệt đối 15μm 15μm 25μm 15μm
Cong vênh (GF3YFER) 25μm 25μm 40μm 25μm
LTV(SBIR)-10mmx10mm <2μm
cạnh wafer vát mép

HOÀN THIỆN BỀ MẶT

*n-Pm=n-loại Pm-Cấp,n-Ps=n-loại Ps-Cấp,Sl=Bán cách điện

Mục

8 inch

6 inch

4 inch

nP n-Pm n-Ps SI SI
Hoàn thiện bề mặt Đánh bóng quang học hai mặt,Si-Face CMP
Độ nhám bề mặt (10um x 10um) Si-FaceRa≤0,2nm
Mặt C Ra< 0,5nm
(5umx5um) Si-Mặt Ra<0,2nm
Mặt C Ra<0.5nm
Chip cạnh Không được phép (chiều dài và chiều rộng ≥0,5mm)
Thụt lề Không được phép
Vết xước (Si-Mặt) Số lượng.<5, Tích lũy
Chiều dài 0,5 × đường kính wafer
Số lượng.<5, Tích lũy
Chiều dài 0,5 × đường kính wafer
Số lượng.<5, Tích lũy
Chiều dài 0,5 × đường kính wafer
vết nứt Không được phép
Loại trừ cạnh 3mm
第2页-2
第2 câu chuyện-1
tấm wafer SiC

  • Trước:
  • Kế tiếp: