CVD SiC là gì
Lắng đọng hơi hóa học (CVD) là quá trình lắng đọng chân không được sử dụng để sản xuất vật liệu rắn có độ tinh khiết cao. Quá trình này thường được sử dụng trong lĩnh vực sản xuất chất bán dẫn để tạo thành các màng mỏng trên bề mặt tấm wafer. Trong quá trình điều chế SiC bằng CVD, chất nền được tiếp xúc với một hoặc nhiều tiền chất dễ bay hơi, chúng phản ứng hóa học trên bề mặt chất nền để lắng đọng SiC mong muốn. Trong số nhiều phương pháp điều chế vật liệu SiC, các sản phẩm được điều chế bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học có độ đồng nhất và độ tinh khiết cao, đồng thời phương pháp này có khả năng kiểm soát quy trình mạnh mẽ.
Vật liệu CVD SiC rất phù hợp để sử dụng trong ngành công nghiệp bán dẫn đòi hỏi vật liệu hiệu suất cao vì sự kết hợp độc đáo giữa các đặc tính nhiệt, điện và hóa học tuyệt vời. Các thành phần CVD SiC được sử dụng rộng rãi trong thiết bị khắc, thiết bị MOCVD, thiết bị epiticular Si và thiết bị epiticular SiC, thiết bị xử lý nhiệt nhanh và các lĩnh vực khác.
Nhìn chung, phân khúc thị trường lớn nhất của các thành phần CVD SiC là các thành phần thiết bị khắc. Do khả năng phản ứng và độ dẫn thấp đối với khí ăn mòn có chứa clo và flo, cacbua silic CVD là vật liệu lý tưởng cho các bộ phận như vòng lấy nét trong thiết bị khắc plasma.
Các thành phần cacbua silic CVD trong thiết bị khắc bao gồm vòng lấy nét, đầu vòi sen gas, khay, vòng cạnh, v.v. Lấy vòng lấy nét làm ví dụ, vòng lấy nét là một bộ phận quan trọng được đặt bên ngoài tấm bán dẫn và tiếp xúc trực tiếp với tấm bán dẫn. Bằng cách đặt điện áp vào vòng để tập trung plasma đi qua vòng, plasma sẽ tập trung vào tấm bán dẫn để cải thiện tính đồng nhất của quá trình xử lý.
Vòng lấy nét truyền thống được làm bằng silicon hoặc thạch anh. Với sự tiến bộ của việc thu nhỏ mạch tích hợp, nhu cầu và tầm quan trọng của quá trình khắc trong sản xuất mạch tích hợp ngày càng tăng, đồng thời sức mạnh và năng lượng của việc khắc plasma tiếp tục tăng. Đặc biệt, năng lượng plasma cần thiết trong thiết bị khắc plasma ghép điện dung (ĐCSTQ) cao hơn, do đó tỷ lệ sử dụng vòng lấy nét làm bằng vật liệu cacbua silic ngày càng tăng. Sơ đồ nguyên lý của vòng lấy nét cacbua silic CVD được hiển thị bên dưới:
Thời gian đăng: 20-06-2024