Sự miêu tả
Chất nhạy cảm wafer SiC của Semicorex dành cho MOCVD (Lắng đọng hơi hóa chất hữu cơ-kim loại) được thiết kế để đáp ứng nhu cầu chính xác của quá trình lắng đọng epiticular. Bằng cách sử dụng Silicon Carbide (SiC) chất lượng cao, những chất nhạy cảm này mang lại độ bền và hiệu suất vượt trội trong môi trường nhiệt độ cao và ăn mòn, đảm bảo sự phát triển chính xác và hiệu quả của vật liệu bán dẫn.
Các tính năng chính:
1. Đặc tính vật liệu vượt trộiĐược chế tạo từ SiC cao cấp, các chất nhạy cảm bán dẫn của chúng tôi có tính dẫn nhiệt và kháng hóa chất đặc biệt. Những đặc tính này cho phép chúng chịu được các điều kiện khắc nghiệt của quy trình MOCVD, bao gồm nhiệt độ cao và khí ăn mòn, đảm bảo tuổi thọ và hiệu suất đáng tin cậy.
2. Độ chính xác trong lắng đọng epiticularKỹ thuật chính xác của Bộ cảm ứng wafer SiC của chúng tôi đảm bảo phân phối nhiệt độ đồng đều trên bề mặt wafer, tạo điều kiện cho lớp epiticular nhất quán và chất lượng cao phát triển. Độ chính xác này rất quan trọng để sản xuất chất bán dẫn có đặc tính điện tối ưu.
3. Tăng cường độ bềnVật liệu SiC mạnh mẽ mang lại khả năng chống mài mòn và xuống cấp tuyệt vời, ngay cả khi tiếp xúc liên tục với môi trường xử lý khắc nghiệt. Độ bền này làm giảm tần suất thay thế thiết bị cảm biến, giảm thiểu thời gian ngừng hoạt động và chi phí vận hành.
Ứng dụng:
Bộ cảm biến wafer SiC của Semicorex dành cho MOCVD rất phù hợp cho:
• Tăng trưởng epiticular của vật liệu bán dẫn
• Quy trình MOCVD nhiệt độ cao
• Sản xuất GaN, AlN và các chất bán dẫn phức hợp khác
• Ứng dụng sản xuất chất bán dẫn tiên tiến
Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC:
Những lợi ích:
•Độ chính xác cao: Đảm bảo sự phát triển epiticular đồng đều và chất lượng cao.
•Hiệu suất lâu dài: Độ bền vượt trội làm giảm tần suất thay thế.
• Hiệu quả chi phí: Giảm thiểu chi phí vận hành thông qua việc giảm thời gian ngừng hoạt động và bảo trì.
•Tính linh hoạt: Có thể tùy chỉnh để phù hợp với các yêu cầu quy trình MOCVD khác nhau.
