Sự miêu tả
Công ty chúng tôi cung cấp dịch vụ xử lý lớp phủ SiC bằng phương pháp CVD trên bề mặt than chì, gốm sứ và các vật liệu khác, để các khí đặc biệt chứa carbon và silicon phản ứng ở nhiệt độ cao để thu được các phân tử SiC có độ tinh khiết cao, các phân tử lắng đọng trên bề mặt vật liệu phủ, hình thành lớp bảo vệ SIC.
Các tính năng chính
1. Than chì phủ SiC có độ tinh khiết cao
2. Khả năng chịu nhiệt vượt trội và độ đồng đều nhiệt
3. Được phủ tinh thể SiC mịn cho bề mặt nhẵn
4. Độ bền cao trước khả năng làm sạch bằng hóa chất
Thông số kỹ thuật chính của lớp phủ CVD-SIC
| Thuộc tính SiC-CVD | ||
| Cấu trúc tinh thể | Giai đoạn FCC | |
| Tỉ trọng | g/cm³ | 3,21 |
| độ cứng | Độ cứng Vickers | 2500 |
| Kích thước hạt | mm | 2~10 |
| Độ tinh khiết hóa học | % | 99.99995 |
| Công suất nhiệt | J·kg-1 ·K-1 | 640 |
| Nhiệt độ thăng hoa | oC | 2700 |
| Sức mạnh cảm giác | MPa (RT 4 điểm) | 415 |
| Mô đun của Young | Gpa (uốn cong 4pt, 1300oC) | 430 |
| Giãn nở nhiệt (CTE) | 10-6K-1 | 4,5 |
| Độ dẫn nhiệt | (W/mK) | 300 |
